Chez Micro to Nano Solutions, nous proposons des procédés spécialisés de chimie humide pour les applications en semi-conducteurs, MEMS et nanofabrication, grâce à des installations certifiées de bancs humides en salle blanche.

Notre flux de traitement chimique prend en charge à la fois le développement en phase de recherche et les productions en petits volumes, permettant une préparation précise des matériaux, la modification de surface, le nettoyage et la gravure, dans des conditions de procédé rigoureusement contrôlées.

Nos bancs humides sont configurés pour une large gamme de chimies — acides, bases, solvants et procédés spécialisés — incluant les nettoyages RCA, l’élimination des oxydes, la gravure des métaux et le décapage des polymères.

Le développement des procédés est réalisé selon des protocoles stricts de sécurité en salle blanche, avec surveillance en temps réel et des standards de gestion chimique comparables à ceux des fabs de semi-conducteurs avancées.

Capacités

• Gravure humide du silicium, des matériaux III-V, des métaux et des diélectriques
• Nettoyages standards RCA
• Élimination des oxydes par HF et amincissement contrôlé des couches d’oxyde
• Nettoyage Piranha et décapage de résine
• Gravure anisotrope du silicium (KOH / TMAH)
• Gravure BOE (SiO₂ / SiN)
• Traitement par solvants (acétone / IPA)
• Traitement au niveau wafer ou au niveau puce

Applications typiques

• Fabrication de dispositifs semi-conducteurs
• Procédés MEMS et capteurs
• Préparation de surfaces et couches minces
• Nettoyage post-lithographie
• Préparation d’échantillons pour analyse de défaillance

Valeur ajoutée

• Accès à des salles blanches académiques avancées avec un savoir-faire en intégration industrielle
• Flux de procédés chimiques flexibles et adaptables
• Accélération de la recherche, du prototypage et du transfert vers une production industrialisable