Conception de photomasques

Notre service de conception de photomasques couvre un large éventail d’applications, allant de structures de test simples à des dispositifs multicouches complexes.

Nous accordons une attention particulière à :

• la symétrie
• les stratégies d’alignement
• la fidélité des motifs
• la compatibilité avec les procédés de lithographie

afin de garantir un transfert de motifs précis pour différents niveaux de résolution.

Chaque photomasque est conçu en tenant compte des contraintes de fabrication en aval, assurant que les conceptions réalisées en CAO soient fiables et reproductibles en salle blanche.

Conception de procédés de fabrication

Au-delà du design des masques, nous proposons une conception complète des procédés de fabrication, en définissant chaque étape, matériau et équipement dans un flux de fabrication robuste et réaliste.

Cela inclut :

• le choix des méthodes de lithographie appropriées
• la définition des chimies de gravure
• la sélection des techniques de dépôt
• l’intégration de contrôles critiques pour éviter les points de défaillance

Notre approche permet de réduire les essais-erreurs et d’accélérer le passage du concept au prototype fonctionnel.

Un accompagnement adapté à votre projet

Que vous soyez une équipe de recherche développant un dispositif innovant ou une startup préparant une production en petits volumes, notre expertise en conception vous permet de démarrer votre projet avec :

• clarté
• précision
• une stratégie de fabrication maîtrisée